碑是铜电解生产过程中的主要杂质
碑是铜电解生产过程中的主要杂质，为保证电铜质量，必须将电解液中的砷控制在一定范围内。因此，砷的脱除成为电解液净化的主要内容。由于脱砷电耗高，一般可达整个铜电解过程电能消耗的3%～5%;且还伴随大量铜的脱除，导致铜的直收率下降。因此，脱砷过程的费用，成为电解生产成本的重要组成部分。
目前国内铜电解生产中的脱砷方法主要有电积脱砷法、溶剂萃取法两种。电积法是最主要的方法。另外，沉淀法、膜分离法等方法，虽有大量研究，但尚未见在生产中应用河南复合式破碎机的报导。国内的连续电积脱砷法主要有某厂的“诱导法脱砷”，中南大学的“控制阴极电势电积法脱铜砷”，云南铜业股份有限公司(以下简称云铜)的“并联循环连续电积脱砷法”。本文将介绍“并联循环连续电积脱砷法”在云铜的研究和实践。
各铜冶炼企业根据自身的工艺特点和财工艺认识的不同，采用了不同的电解液净化流程。不同的流程，对净化过程的控制和经济技术指标将产生显著的影响。云铜根据电解液净化的任务，即铜离子浓度的平衡，电解液砷和镍的脱除，选择了图1的流程。
它有效的衔接了各工序间的工艺特点和物料特性。即通过电解液的蒸发浓缩、冷却结晶生产硫酸铜，降低了溶液中铜离子的浓度，并提高了溶液中砷、郑州选矿设备镍、硫酸的浓度。这为电积脱砷过程的溶液提供了适当的铜砷浓度;为硫酸镍生产过程提供了高浓度的溶液。从而减少了电积脱砷过程铜的无效消耗，提高铜的直收率，并降低电能消耗。必要时，还可以对结晶母液进行再结晶或澄清分离，将铜砷浓度控制在合适的范围。